超纯水之用于高科技产业如半导体和光电（薄膜液晶显示器 TFT-LCD 等）以及医药食品业，因其各自使用之目的和需求条件不同，而有不同之要求规范，故如下将依药品、半导体和 TFT-LCD 之水质规范分别说明。
为使读者熟悉整个水质经纯化后之程度，首先先以新竹科学园区所使用之原水（水源来自宝山水库和永和山水库）水质，如表2-3所示，特须注意者是表中之数值会随着季节或气候因素之变化，如丰水期、枯水质、梅雨季、台风天⋯等，而有显著之差异。由于半导体技术之演进与元件密集化，线径由早期之微米（＞1.0μm）到次微米（<1.0μm）以迄今之奈米［0.11μm（110nm）；0.09μm（90nm）及 0.065μm（65nm）］，在线宽日益缩小下，其密集度对应水质之要求自亦是日趋严格，亦即离子之浓度将从ppm 去除至ppb（十亿分之一）甚至ppt（兆分之一），表2-4所示为半导体业所需之超纯水水质。
在薄膜液晶显示器方面，由于其设计之线径一般均比半导体来得大，但由于其前段制程 TFT（Array）和半导体制程类似，于某些制程需求规格与半导体相当，故一般仍采与半导体相似之规范；唯在中段制程LCD（Cell），因制程之特性需求分别使用不同规范以及较低等级之纯水，亦即在薄膜液晶显示器之制造过程中，将因不同之制程设计而有不同之纯水规范，最多有三种不同之水质需求，如表2-5所示。
表中之离子水是与半导体厂较不同之处，其处理方式是在水中加氨水（NH4OH），并将其PH控制在8.5~9.0之间，同时通入约0.25~0.3ppm浓度之氢气，使水成为离子水，此水有较强之去除微粒子能力，尤其是在TFT-LCD 大尺寸之玻璃面板更有此需要。
