启闳半导体科技(江苏)有限公司QiHong Semicon TECHNOLOGY (JIANGSU) CO.,LTD
侧墙工艺
轻掺杂漏(LDD)离子注入工艺
多晶硅栅工艺
栅氧化层工艺
LOCOS 隔离工艺
有源区工艺
双阱工艺
衬底制备
范围:Lam 9400、9600、4520、2300