启闳半导体科技(江苏)有限公

TsiHon Semicon Technology (JiangSu)Co.,LTD
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中国集成电路专用材料重点企业,中國積體電路專用材料重點企業
来源: | 作者:Viki | 发布时间: 2023-09-07 | 505 次浏览 | 分享到:

集成电路专用材料品种繁多,分别为硅及硅基材料、掩模版、光刻胶、高纯电子级气体、抛光材料、工艺化学品和溅射靶材等,相关企业介绍如下。

1.硅及硅基材料

开展硅片材料业务的企业主要有北京有色金属研究总院(有研总院)、上海市新昇半导体科技有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海新傲科技股份有限公司、南京国盛电子有限公司、河北普兴电千科技股份有限公司、天津市环欧半导体材料技术有限公司。300mnm 硅片技术的开发和产业化集中在上海新昇和有研总院。上海新傲开发了 200mm SOI 晶片关键技术,并建成生产线。200mm 硅片产业化正在由有研总院、金瑞泓、上海新傲、南京国盛、河北普头等公司推进。天津环欧联合浙江晶盛和北京京运通等企业,推进 200mm 区熔硅硅片的产业化。

2.掩模版

目前国内掩模版生产企业共有4家,分别是上海凸版光掩模有限公司、中芯国际掩模制造厂、华润掩模工厂和无锡中微掩模电 子有限公司。中芯国际掩模制造厂主要为公司自身圆片生产配套,技术水平为 0.35um ~28nm。 华润掩模工厂为华润微电子生产配套,技术水平为2~0.35um。 无锡中微掩模电 子有限公司的当前技术水平为0.25um。上海凸版光掩模有限公司打开了国内外市场,技术水平达到 0.25um。

3.光刻胶

目前从事光刻胶研制、生产的企业主要有北京科华微电子材料有限公司苏州瑞红电子化学品有限公司和潍坊星泰克微电子材料有限公司。北京科华微电子材料有限公司的产品主要包括 248nm 光刻胶及配套试剂、紫外正性光刻胶(g、i线)及配套试剂、紫外负性光刻胶及配套试剂等。苏州瑞红电子化学品有限公司的主要产品为紫外负性光刻胶及配套试剂、g线光刻胶及配套试剂、TN-STN 光刻胶等。潍坊星泰克微电 子材料有限公司的主要产品包括 g线光刻胶、Lift-of 负胶和 LED 专用 PSS 正胶及相关的配套试剂。

4. 高纯电子级气体

提供特种电子级气体的公司主要有十几家企业。中船718 所、南大光电、中昊光明化工研究院、洛阳市黎明化工研究院、大连科利德化工科技开发有限公司等在集成电路工艺用的上百种气体中,选择用量大且技术难度高的20 多种气体开展关键技术开发和产业化推进。

5.抛光材料

目前,已有多家能够制备高档拋光液的企业。上海安集徽电子的铜和铜阻挡层地光液、SiO₂抛光液、3D-TSV 拋光液等产品已成功进人集成电路生产线。安集微电子已成为国际五大芯片制造公司的合格供应商。在化学机械抛光垫和金刚石修整盘技术方面,成都时代立夫科技有限公司、宁波江丰精密机电科技有限公司的研发产品已在国内 200mm 和 300mm 生产线进行工艺验证。

6.工艺化学品

能够提供满足集成电路制造要求的工艺化学品企业主要有浙江凯圣氟化学有限公司、湖北头福电子材料有限公司、上海新阳半导体材料股份有限公司、江阴江化微电子材料股份有限公司、苏州晶瑞化学有限公司、江阴润玛电子材料股份有限公司、杭州格林达化学有限公司、贵州威顿晶磷电子材料有限公司。上海新阳开发的电镀硫酸铜及添加剂在200mm 和 300mmn 集成电路铜工艺中获得量产应用。湖北兴福的磷酸、浙江凯圣氧的氢酸等都已在 200mm 和 300mm 工艺上进行认证。

7.溅射靶材

能够生产半导体制造用靶材的企业主要有宁波江丰电子材料股份有限公司和有研亿金新材料股份有限公司。江丰电子的部分靶材指标接近国际水平,产品已全面进人国内 200mm 和300mm 集成电路制造厂,并批量进入国际主流企业。有研亿金的主要产品为 200mm 以下的半导体制造和先进封装用靶材。