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调整装置水平---调整产线的平衡,提升生产能力
来源: | 作者:LiLi | 发布时间: 2024-07-04 | 26 次浏览 | 分享到:

半导体的前段制程,是由包括成膜、光蚀刻、蚀刻、不纯物质添加、洗净等制程不断重复而构成的。各制程分别拥有数个制造装置群,一般而言,这些装置群由多个完全相同的装置,或者是拥有同种机能但彼此相异的机台构成。

然而因各个装置需要处理的半导体制程不同,而决定了各装置的“产出(throughput)”,也就是单位时间可以处理的平均晶圆片数。因此,于购置生产线时,必须根据生产量(或是每个月所需要投入的矽晶圆片数),考量各装置的产出(throughput)来决定装置的台数。

考量产线的平衡

从装置能力的差异观点来看,关于产线能力平衡的范例。在此图中,将各装置群依每个月的处理片数从小到大进行排列。在此例中,最上方处理片数最少的Gs群为瓶颈,对于产线的产量产生限制。E以下的装置群均有超过G3处理片数的部分,此亦称为装置的裕度,换个观点来看,也称为装置上浪费掉的生产能力。

若为了提高处理能力,而在瓶颈的G3装置群中追加装置,则E装置群燮成下一个瓶颈。

从以上说明可以了解到,为了提升产线的平衡程度,将各装置群的能力尽量对齐,是很重要的。依此观点看来,当产线规模越大,则较易在各个机台间进行调整而减少装置能力的浪费,但此调度也有极限。再则,也有另行制作处理能力较小的装置,并以装置台数来进行产线平衡的调整,但有装置台数变多的缺点。

为了维持生产线的高度生产性,必须对产线进行适当的能生产能力设定,同时在考量处理能力的前提下进行装置的导入,并将各个装置的生产能力提升等,综合的产线平衡是很重要的。